100%自主可控！国产350nm光刻机拿下批量订单

国产光刻机又传来重磅消息。芯上微装近日官宣，其自研的350nm步进投影光刻机AST6200，顺利通过了国内化合物半导体头部客户的全流程工艺验证。更关键的是，这次还直接拿下了批量重复采购订单。这事儿来得挺快，从2025年11月首台设备发运，到2026年8月收获批量订单，前后才用了9个月。

说白了，这设备从关键零部件到软件控制系统，全都实现了百分之百自主可控。这步棋，算是给国产光刻机在化合物半导体专用设备领域，踩实了一个关键落脚点。 AST6200这台机器，专门给化合物半导体做步进光刻用的。

它能稳稳当当实现350nm分辨率，正面套刻精度做到80nm，背面套刻精度也能达到500nm。别看数字不大，这在它对应的赛道里，已经是能打的硬指标了。而且它兼容性特别广，Si、SiC、GaN、GaAs、InP、蓝宝石这些衬底材料都能伺候。

尺寸上，2寸到8寸的基片都支持，连透明、半透明还有大台阶晶圆这种难搞的活儿，调焦调平也都不在话下。 软件控制系统这块儿，也是全栈自主可控，没留任何外援空间。这机器主要盯着功率器件、射频前端、光电子芯片、Micro LED这几条产线。

这次批量订单落地，等于把第三代半导体量产线上，对国产中高端光刻设备的刚需缺口给填上了。换句话说，在这些化合物半导体领域，国产设备已经具备了替代进口的实力。不过也得掰扯清楚，AST6200走的是步进光刻机路线，跟硅基逻辑芯片用的步进扫描式光刻机，压根不是一个技术路子，应用层级也不一样。

芯上微装这家公司，是从上海微电子装备集团拆分出来的独立实体。它专攻“超越摩尔”赛道里的芯片制造、先进封装、三代半导体和新型显示这几个核心方向。目前它在先进封装步进光刻机市场上，表现相当亮眼，全球市占率大概三成五，国内市场占有率更是接近九成。

国产光刻机这回算是又啃下一块硬骨头，后续能不能持续放量，还得看市场买单的节奏。